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- 国家专利的类型主要包括以下几种: 发明专利:发明人或设计人对产品、方法或者其改进所提出的新的技术方案,经过申请并经过审查后获得专利权。 实用新型专利:针对产品的形状、结构或者其组合所提出的新的技术方案,经过申请并经过审查后获得专利权。 外观设计专利:针对产品的外观设计所提出的新的设计,经过申请并经过审查后获得专利权。 植物新品种专利:对于新的植物品种的育种方法或者育种结果,经过申请并经过审查后获得专利权。 集成电路布图设计专利:对于集成电路的布图设计,经过申请并经过审查后获得专利权。 软件专利:对于计算机程序、数据库或者其他以电子数据形式存在的信息,经过申请并经过审查后获得专利权。 商业秘密:对于企业的经营策略、管理方法、客户名单等商业信息,经过申请并经过审查后获得专利权。 工业设计专利:对于产品的外观设计,经过申请并经过审查后获得专利权。 地理标志产品专利:对于具有特定地理环境、气候条件、生产方式等特征的产品,经过申请并经过审查后获得专利权。 医药专利:对于药品、医疗器械、治疗方法等医疗领域的创新成果,经过申请并经过审查后获得专利权。
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- 国家专利的类型主要包括以下几种: 发明专利:发明专利是指对产品、方法或者其改进所提出的新的技术方案,经过申请人的申请和审查机构的审查后获得授权。发明专利的保护期为20年,自申请日起计算。 实用新型专利:实用新型专利是指对产品的形状、结构或者其组合所提出的新的技术方案,经过申请人的申请和审查机构的审查后获得授权。实用新型专利的保护期为10年,自申请日起计算。 外观设计专利:外观设计专利是指对产品的外观设计所提出的新的设计,经过申请人的申请和审查机构的审查后获得授权。外观设计专利的保护期为10年,自申请日起计算。 植物新品种权:植物新品种权是指对植物的新品种进行保护的一种权利,通常由育种者向国家知识产权局提出申请,经过审查后获得授权。植物新品种权的保护期限一般为20年,自申请日起计算。 集成电路布图设计专有权:集成电路布图设计专有权是指对集成电路的布图设计进行保护的一种权利,通常由集成电路设计者向国家知识产权局提出申请,经过审查后获得授权。集成电路布图设计的保护期限一般为10年,自申请日起计算。 计算机软件著作权:计算机软件著作权是指对计算机程序及其相关文档进行保护的一种权利,通常由软件开发者向国家知识产权局提出申请,经过审查后获得授权。计算机软件著作权的保护期限为50年,自申请日起计算。
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